2011年中国MOCVD增量有望最大全球巨头主导MOCVD设备供应
2010年全球MOCVD新增安装量中，韩国增量最多，其次是台湾地区。根据SEMI（国际半导体设备及材料协会）统计，中国大陆今年MOCVD新增量在160-180之间，居全球第三。另外，根据SEMI统计和分析，结合MOCVD供应情况，2011年中国MOCVD新增量份额有望达到全球的40％，而其它地区的增量能会保持与2010年相当的水平或下降。
MOCVD作为LED最核心环节的外延片生长关键设备，也是制造环节中单项投资最大的设备。目前可以提供工业化生产MOCVD设备制造商有限，集中程度较高，主要在欧美和日本。在全球LED产业的发展带动下，近年来MOCVD的一直处于供应紧张的状态，设备到货期不断被延长。中国MOCVD的供应商主要集中在两家，美国的Veeco和德国AIXTRON。
并不顺利的MOCVD设备国产化之路短期内难有突破
中国MOCVD设备国产化之路一直走的并不顺利，只能够生产用于科研的小型MOCVD设备，目前尚无能够提供用于成熟工业化生产的MOCVD设备厂家，但是近来有几家国内设备科研和生产单位给出了设备国产化的时间表。
AIXTRON内部人士透露，AIXTRON预计2011年营收额将达4.5亿欧元（约40.43亿元人民币），其中中国市场将占其总营收的4成，也就是1.8亿欧元（约16.17亿元人民币）。
面对如此诱人的数据，就不难解释天龙光电此次在LED外延核心设备MOCVD上的大动作。不仅仅是天龙光电，近几年，国内已有十几家公司或机构研发出多台MOCVD样机，如中科院半导体所、昭信集团与华中科技大学合作、青岛杰生光电和西安电子科技大学合作，但最后都功亏一篑，大都是推出样机后便不了了之。2010年1月昭信集团MOCVD样机下线曾闹得沸沸扬扬，但最终以销声匿迹收场。
复旦大学方志烈教授表示，生产MOCVD设备不是那么简单的事情，要不然现在的市场不会仅被AIXTRON和Veeco两家公司所垄断。
AIXTRON内部人士则表示，不会把这些生产MOCVD设备的公司作为竞争对手。
MOCVD 开发挑战多少些炒作多些合作和投入
LED外延工艺难度很高，外延薄膜质量、工艺均匀性、工艺重复性的严格要求对外延工艺开发、MOCVD设备开发提出了巨大的挑战，反应腔室气流场设计涉及腔室设计、进气系统设计、工艺组件设计、基片旋转系统设计、真空系统设计等多项关键技术等技术难度非常高，高温下的高均匀、高精度加热控制，同时，多个不同温度的工艺步骤在同一腔室内进行，工艺温度频繁切换，这些都对加热系统的设计提出了巨大挑战精度控制要求高，且多步工艺在单腔室内频繁切换，对系统的硬件可靠性要求非常高，同时，LED外延工艺开发资金耗费巨大。
如果技术人员忽悠老板，老板忽悠政府，这是不负责任的行为。更有国内知名外延片厂家的负责人直言，“我是不看好这个项目，我只会把这类新闻当成笑话来看，拿项目经费之类的，很多人都是拿这个概念来骗资源。真正做出MOCVD是很难的，这两年国内是做不出来的，至少要到2013年才有可能”
尽管业界对于国产MOCVD的观点不尽相同，但如果像天龙光电这样的上市公司能够按照规划进度开发出适合市场的MOCVD设备，那无疑是给中国LED产业带来福音。正如亚威朗光电副总裁申广所言，“从企业的角度来看，我们是希望MOCVD设备有新的竞争对手出现，有更好的产品出来，这样可以降低整个产业链的成本，进入通用照明更成熟。只要是好的产品，我们一定会支持和欢迎”。